濰坊普分儀器有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)FBRM
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更新時(shí)間:2022-05-09 17:45:36瀏覽次數(shù):396次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 儀表網(wǎng)聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM和顆粒視頻顯微鏡PVM為工藝過程中進(jìn)行顆粒表征分析的技術(shù)。通過從**API結(jié)晶到*終溶解與崩解測(cè)定中對(duì)性能的優(yōu)化,為您帶來直接的效益。他們舉報(bào)敏感的測(cè)量、可靠的設(shè)計(jì)、和在完整工藝過程濃度下無需采樣抽取或稀釋就可監(jiān)測(cè)顆粒系統(tǒng)的*功能。聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM實(shí)時(shí)跟蹤工藝過程中顆粒、液滴及團(tuán)粒變化的速度與程度。而無需進(jìn)行離線采樣處理分析。
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探頭式超聲顆粒粒度分布測(cè)量?jī)xNanoSonic不同于聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM,采用超聲檢測(cè),測(cè)試的是真實(shí)的粒徑大小,非弦長(zhǎng)計(jì)算!檢測(cè)范圍達(dá)到納米級(jí)別1nm-3000um.
防爆探頭式在線的晶體顆粒粒徑大小,粒徑分布測(cè)量?jī)x用于反應(yīng)釜里面的樣品在線測(cè)試檢測(cè)也可用于工業(yè)使用!
聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM和在線顆粒度顆粒錄影顯微鏡技術(shù)PVM為工藝過程中進(jìn)行顆粒表征分析的技術(shù)。通過從**API結(jié)晶到*終溶解與崩解測(cè)定中對(duì)性能的優(yōu)化,為您帶來直接的效益。他們舉報(bào)敏感的測(cè)量、可靠的設(shè)計(jì)、和在完整工藝過程濃度下無需采樣抽取或稀釋就可監(jiān)測(cè)顆粒系統(tǒng)的*功能。聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM實(shí)時(shí)跟蹤工藝過程中顆粒、液滴及團(tuán)粒變化的速度與程度。而無需進(jìn)行離線采樣處理分析。
聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM測(cè)量對(duì)粒徑、形狀和粒數(shù)變化敏感的顆粒系統(tǒng)的指紋式分布。實(shí)時(shí)測(cè)量跟蹤工藝過程中自然存在的顆粒和顆粒結(jié)構(gòu)的變化速度和變化程度,避免離線采樣。
在結(jié)晶過程中,典型目標(biāo)是*大現(xiàn)代提高產(chǎn)量,同時(shí)提供過濾速度并避免下游瓶頸,聚焦光束反射測(cè)量?jī)xFBRM技術(shù)通過展示哪項(xiàng)工藝條件生產(chǎn)小顆粒,哪項(xiàng)工藝條件生產(chǎn)大顆粒,提供對(duì)工藝狀況的及時(shí)了解。
防爆探頭式超聲粒度分布測(cè)量?jī)x,它可以對(duì)數(shù)1納米到3000微米以下的懸浮液中的顆粒粒度進(jìn)行測(cè)量。測(cè)量樣品的濃度從0.01VOL%到50VOL%,而無需任何稀釋和其他處理。他適用于化工,制藥,合成和食品等許多行業(yè)。
技術(shù)指標(biāo):
測(cè)量范圍:1nm-3000um
測(cè)量方式:在線/離線測(cè)量懸浮液顆粒
測(cè)量濃度:≤50% vol/wol
重復(fù)性誤差:≤+1%(標(biāo)準(zhǔn)粒子D50偏差)
準(zhǔn)確性誤差:≤+1%(標(biāo)準(zhǔn)粒子D50偏差)
超聲頻率:30MHZ和50MH兩種
性能特征
NanoSonic 探頭式超聲顆粒粒度分布測(cè)量?jī)x,具有多種探頭設(shè)計(jì)。其中,反射式探頭具有小巧,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn);透射式探頭具有信號(hào)識(shí)別強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。此外,還提供流動(dòng)樣品槽的設(shè)計(jì),僅增加8cm不到的流程。
NanoSonic 探頭式超聲顆粒粒度分布測(cè)量?jī)x的探管長(zhǎng)度5-40CM,直徑<10MM,可根據(jù)客戶需要進(jìn)行設(shè)計(jì)。
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