奧地利EVK高光譜相機

EVK自成立以來一直致力于開發高光譜成像及傳感器類產品及解決方案，除了能夠對物料流中的對象進行分析和分類并實時做出準確決策的*傳感器系統之外，EVK還設計了數據分析中的應用程序，用于分類，檢查，過程監控和過程控制。多年來通過不斷地發展，EVK在循環，采礦，食品工業，制藥和化學工業中基于傳感器的分類和分析系統的開發和制造方面有一定地位。擁有技術團隊的支持，從概念構思到調試和售后支持，可以為客戶需求提供高品質的產品及服務。

產品范圍：

奧地利EVK傳感器、高光譜相機、高光譜攝相機

主要型號：

EQ32、Helios NIR G2 320 Class、Helios NIR G2 320 CORE

應用：

食品加工、礦業、制藥業

相關產品介紹：

EQ32

描述：

EVK HELIOS EQ32高光譜成像系統是一款功能強大的分析工具，基于非接觸式和無損實時紅外成像光譜技術。

EVK HELIOS系統分析物體的化學特性，并區分彩色相機不可見的材料類型。內部處理引擎可提供物料流的定性和定量信息，例如分析物濃度或材料成分。

攝像機附帶的即插即用組件經過全面的內部校準。 Helios EQ32采用緊湊，堅固的不銹鋼外殼，具有應力去耦的光機械特性。

該系統針對實際工業環境進行了優化，可在整個溫度范圍內提供穩定的校準數據。

主要特征：

-在0.93-1.70 nm的近紅外（NIR）波長范圍內工作

-312個有效像素的空間分辨率

-220個光譜像素時500 Hz的采集速度

-GigE Vision GenICam界面

-堅固的工業設計。防護等級IP54

-溫度范圍0°C-50°C，具有*的光學穩定性

-光學系統針對分析應用進行了優化

-與EVK SQALAR軟件套件無縫集成

技術數據：

-光譜范圍：（929±2 – 1702±2）nm

-線掃描速率：446 Hz全幀

-光譜分辨率：2.5 nm

-光譜采樣：3.1 nm

-空間分辨率：312像素

-像素尺寸：30 x 30 µm

-光學耦合：C接口鏡頭

-擊角：60 µm

-接口：GigE Vision（GV）1），Camera link（CL）2）

-觸發輸入：RS-485

-不含鏡頭的尺寸：141 x 174 x 326 mm

-重量：約7.8公斤

-電源：18 – 36 V DC

-功耗：max 24W，典型的8W

-防護等級：IP54

-工作溫度：0至+50°C

-儲存溫度：-25至+75°C

-濕度：8至80％