透反射型偏光熔點儀 XPR-800詳細技術參數
一、儀器的用途
透反射熱臺偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子等專業(yè)的專業(yè)實驗儀器。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀態(tài)和各種變化。
專為材料學、生物化學、冶金學、有機化學、高分子材料學而研制。觀察高聚物熔融和結晶過程中的形態(tài),結晶速率及動力學計算；觀察雙折射體的光學效應；微生物形貌觀察；組織細胞核、壁形態(tài)觀察；地質材料偏光形態(tài)觀察；無機晶體材料觀察,特別對含有結晶體的材料進行熱性能變化的研究更為重要。
二、技術參數
1.目鏡
| 類別 | 放大倍數 | 視場(mm) |
| 大視野目鏡 | 10X | φ18 |
| 分劃目鏡 | 10X | φ18 |
2.物鏡
| 類別 | 放大倍數 | 數值孔徑(NA) | 蓋玻片厚 |
無應力平場
消色差物鏡 | 5X | 0.12 | - |
| 10X | 0.25 | - |
| 40X | 0.65 | - |
| 60X | 0.85 | - |
3.總放大倍數：40X---600
4.目鏡管：轉軸式（傾斜30°），內置檢偏器,可自由切換正常觀察與偏光觀察,推入式
勃氏鏡,中心可調,λ補償器,λ/4 補償器,石英鍥補償器
5.透射照明：6V 20W鹵素燈,亮度可調,起偏器可360°旋轉有0、90、180、270四個讀數
反射照明: 6V 20W鹵素燈,亮度可調, 起偏器可旋轉；
6.載物臺：機械式附加旋轉臺面 尺寸 φ100mm， 360°旋轉
7.調焦機構：粗微動同軸，齒輪轉動 , 帶限位及調節(jié)松緊機構
8.聚光鏡：阿貝聚光鏡NA1.25，升降上下可調
9.防霉系統(tǒng):防霉
10.高精度偏光熔點熱臺 XPH-300
①工作溫度：室溫 至320℃(可達350℃)
②起始溫度設定速率：50℃至300℃小于12min ; 300℃至50℃小于15min
③儀器溫度最小讀數：0.1℃
④加熱臺溫度控制準確度： 室溫-200℃時:±0.5℃; 200-320℃時:±1℃
⑤起始溫度設定準確度：±1℃
⑥線性升溫速率（℃/min）：0.2；0.5
降溫速度:可設置降到到的溫度,從而達到在此溫度的恒溫.
⑦線性升溫速率偏差：±10%
四、系統(tǒng)組成
電腦型(XPR-800V)：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器 4.A/D(圖像采集) 5.XPH熱臺
數碼型(XPR-800D)：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.數碼相機 4.XPH熱臺
五、總放大參考倍數
XPR-800V型：50--3400倍 XPR-800D型：50--2000倍
六、選購件
1.目鏡：16X(Φ11mm) 2.物鏡：20X 50X 80X 100X
3.移動尺(30X25mm) 4.偏光顯微鏡分析軟件
5.圖像測量軟件
