SPECTROLAB S 直讀光譜儀

— 金屬分析真正意義上的革命

40多年來，SPECTRO全心投入開發(fā)出的發(fā)射光譜儀。今天，斯派克公司引入CMOS探測(cè)器技術(shù)，改變了電弧/火花分析技術(shù)的走向及未來。在所有同類分析儀中，SPECTROLAB S所提供分析速度超出想象，低元素檢測(cè)限，同時(shí)也可以提供超長的正常運(yùn)行時(shí)間和非常具有前瞻性的靈活性。

SPECTROLAB S 擁有一個(gè)基于CMOS的探測(cè)器的記錄系統(tǒng)，該系統(tǒng)非常適合于金屬分析。從微量元素到多基體應(yīng)用，它提供了快速、高度準(zhǔn)確、異常靈活的技術(shù)選擇。

樣品的分析速度是儀器*性的重要標(biāo)志，SPECTROLAB S的推出滿足了金屬分析市場(chǎng)對(duì)速度的需求。例如：當(dāng)檢測(cè)低合金鋼時(shí)，它可以在20秒或更短的時(shí)間內(nèi)提供高準(zhǔn)確度的測(cè)量值！

從技術(shù)指標(biāo)和實(shí)際使用效果看，SPECTROLAB S均是適合金屬冶煉廠的測(cè)試需求。對(duì)于金屬再加工生產(chǎn)商、汽車和航空航天制造商、以及成品和半成品、電子產(chǎn)品、半導(dǎo)體等制造商來說，可以給出的解決方案同樣出色。

創(chuàng)新點(diǎn)

1、獨(dú)立雙光室，確保所有分析譜線都獲得很高分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的專用光學(xué)系統(tǒng)。一個(gè)光室精確測(cè)量波長從120到240納米（nm）;另一個(gè)光室，波長范圍從210到800納米（nm）。 兩個(gè)光室都采用*的CMOS檢測(cè)器，具備恒溫裝置和壓力補(bǔ)償功能

2、等離子發(fā)生器數(shù)字光源和點(diǎn)火板可靠的新型高能LDMOS等離子發(fā)生器光源，為SPECTROLAB S 輸出高穩(wěn)定的火花放電，頻率高達(dá)1000 Hz，只需要很短的時(shí)間即可完成測(cè)試，例如分析低合金鋼小于 20 秒。該系統(tǒng)還允許特定應(yīng)用的火花參數(shù)設(shè)置，以優(yōu)化分析性能。

3、精密氬氣控制系統(tǒng) SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據(jù)分析程序精密設(shè)置氬氣流量。節(jié)約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺(tái)，無需管道連接，避免漏氣。

4、火花臺(tái)清理間隔大大延長 堅(jiān)固的陶瓷內(nèi)芯避免積塵粘附。流暢的氣路設(shè)計(jì)確保了很少的粉塵殘留（使得清理間隔時(shí)間延長了8倍）；對(duì)于大樣品量輸出的全自動(dòng)光譜儀系統(tǒng)尤為重要。

5、快速讀出系統(tǒng) 斯派克的GigE創(chuàng)新讀出系統(tǒng)確保海量數(shù)據(jù)的極速處理，從而支持的儀器性能表現(xiàn)。實(shí)現(xiàn)了的全光譜范圍譜圖記錄。

6、低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術(shù)，在關(guān)鍵元素的檢測(cè)限方面，超越光電倍增管技術(shù)的性能。通過配置參比通道，工作曲線可以獲得很好優(yōu)化，可以快速定量分析ppm量級(jí)的高純金屬或合金中的痕量元素。

7、元素在低合金鋼中平均檢測(cè)限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測(cè)限改善5倍。

8、單一標(biāo)樣實(shí)現(xiàn)整個(gè)系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)化, 此項(xiàng)每天可節(jié)省30分鐘工作時(shí)間。