上海德竹芯源科技有限公司
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EVG 620BA 對準系統是 EVG 公司生產的一種光學對準系統。主要用于幫助用戶精確地對齊樣品，以確保高質量的光學處理。EVG 620BA 對準系統具有高精度、高速度、高可靠性等優點，適用于許多不同的光學處理應用，如光學鍵合、光刻等。
EVG 620BA 對準系統通過使用高精度的測量傳感器，如相機或掃描儀，來確定樣品的對齊情況，并使用控制系統對樣品進行微調，以確保樣品的精確對齊。
主要特點
● 高精度：通過高精度的測量傳感器來確定樣品的對齊情況，以保證樣品的精確對齊
● 高速度：通過快速的控制系統，系統可以快速地對樣品進行微調，以確保樣品的精確對齊
● 高可靠性：EVG 620BA 對準系統經過了嚴格的質量控制和測試，以保證其高可靠性和可靠性
主要應用領域
● 光學鍵合：通過精確對齊樣品來保證光學鍵合的高質量
● 光刻：精確對齊樣品以確保光刻的高質量
● 光電處理：通過精確對齊樣品來保證光電處理的高質量
● 其他光學處理應用：EVG 620BA 對準系統可用于其他光學處理應用，如微納光學等
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