上海德竹芯源科技有限公司
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這款用于實驗和研發的小規模生產立式爐管實現了高質量的處理。該立式爐管很緊湊，只需要很小的安裝面積，但可用于各種直徑的晶圓，具有與量產爐相同的溫度特性。
概述
這款用于實驗、研發和小規模生產的立式爐管可用于從 2 英寸到 8 英寸以及 300 毫米的各種晶圓尺寸，小批量爐管的尺寸也可從多達 25 片一體式中進行選擇。由于加熱器可以從 LGO 加熱器和各種其他加熱器中進行選擇，因此工藝開發具有與量產爐管相同的爐口結構和加熱器性能。該立式爐管可用于硅晶片處理（LPCVD、氧化和擴散）、針對功率器件（Si 和 SiC）開發的硅柵氧氮化和活化退火，以及其他工藝。
特性
● 用于研發的高性能處理
● 小批量，最多 25 片一體式進行批量加工
● 提供 2 至 8 英寸和 300 毫米晶圓尺寸
● 配備 LGO 加熱器，實現與量產設備相同的高溫性能
● 配備功能有限的簡單控制系統
規格
外部尺寸：W1500 × D1000 × H2130 mm
加熱器：LGO加熱器
均熱區長度：至 250 mm
晶圓大小：至 8 英寸
可放置晶圓數量： ≥ 25 片/批次（不含陪片）
選配：
強制冷卻系統
N2 置換室
50 至 150 片一體式的加工
300mm 晶圓處理
規格
外部尺寸：W1500 × D1000 × H2130 mm
加熱器：LGO加熱器
均熱區長度：至 250mm
晶圓大小：至 8 英寸
可放置晶圓數量： ≥ 25 片/批次（不含陪片）
選配：
強制冷卻系統
N2 置換室
50 至 150 片一體式的加工
300mm 晶圓處理
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