上海德竹芯源科技有限公司
上海德竹芯源科技有限公司
主要應用晶圓顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠去除，光刻膠的去除及對樣片是否有損傷，將影響到后續工藝和器件的性能。
● 應用領域：高劑量離子注入光刻膠的去除，濕法或干法刻蝕前后殘膠去除，MEMS 中犧牲層的去除，去除化學殘余物，去浮渣工藝，SU-8 光刻膠去除等
● 設備優勢：去膠速度快，對產品損傷小，設計緊湊，操作簡單
● 工藝腔室：石英材質，11 升
● 樣品尺寸：6 寸，向下兼容（可支持 8 寸）
● 腔門：抽屜式，帶觀察窗
● 微波源：2.45GHz，50 - 600W 可調
● 氣路：標配兩路工藝氣體，帶質量流量計(可升級至 4 路）
● 真空規：pirani，1-1×105Pa
● 真空泵：干泵或油泵可選
● 控制系統：10.4 寸觸摸屏，Windows系統，圖形化操作界面
● 電力需求：3 / N / PE AC 50Hz 400 / 240V 16A
● 整機尺寸：620(W) × 550(D) × 500(H) mm
典型應用
● 等離子去膠，適合小批量生產，也適合于研發、實驗室
● 去除光刻膠
● 干刻或濕刻處理前或后
● SU-8 或其他環氧基樹脂
● MEMS 制造中去除犧牲層
技術規格
● 等離子源：2.45Ghz 微波等離子源，600W
● 腔體 ：石英 .φ235mm，長 260mm
適用于 Wafer 200mm（8英寸）小批生產及實驗
● 外觀尺寸：長 460mm，寬 590mm，高 550mm
● 處理氣體：2 路氣體+數字 MKS 流量控制器
● 真空腔門：抽屜式門+觀察窗
● 溫控 Wafer Chuck
● 觀察窗 ：UV 與微波屏蔽保護
● GUI 7" 觸摸屏，Window CE 操作系統
選項
● 進口干泵系統（含相關附件）
● 法拉第籠
● 石英舟
● 信號燈塔-紅黃綠三色
● 額外的處理氣體線路-最多至 4 路氣體
● 包裝，運輸
您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
儀表網 設計制作，未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
