二次元投影儀
一、工作原理
二次元是指直角坐標(biāo)系中的X，Y二維坐標(biāo)，在臥式結(jié)構(gòu)中是指X，Z軸二維坐標(biāo);
投影儀通過(guò)光學(xué)凸透鏡的放大，將較小的被測(cè)工件在投影屏上形成較大的圖像。測(cè)量投影儀就是以此為原理而進(jìn)行測(cè)量和觀察工件的裝置。
如圖 所示，被測(cè)工件Y 置于工作臺(tái)上，在透射或反射照明下，它由物鏡0 成放大實(shí)象Y'（倒像）并經(jīng)反光鏡M1 與M2 反射于投影屏P 的磨沙面上。當(dāng)反光鏡M1 換成正像系統(tǒng)后，Y'即成為正像，一個(gè)與工件*同向的影像，觀察很直觀，給使用者帶來(lái)極大的方便，CPJ-30XXAZ 即正像投影儀.在投影屏上可用標(biāo)準(zhǔn)玻璃工作尺對(duì)Y'進(jìn)行測(cè)量，也可以用預(yù)先繪制好的標(biāo)準(zhǔn)放大圖對(duì)它進(jìn)行比較測(cè)量。測(cè)得的數(shù)值除以物鏡的放大倍數(shù)即是工件的測(cè)量尺寸。還可以利用工作臺(tái)上的數(shù)字測(cè)量系統(tǒng)對(duì)工件Y 進(jìn)行坐標(biāo)測(cè)量;也可利用投影屏旋轉(zhuǎn)角度數(shù)顯系統(tǒng)對(duì)工件的角度進(jìn)行測(cè)量。圖中S1 與S2 分別為透射和反射照明光源，K1 與K2 分別為透射和反射聚光鏡。視工件的性質(zhì)，兩種照明可分別使用，也可同時(shí)使用。半透半反鏡L 僅僅在反射照明時(shí)才使用。
二、分類：
分為立式（X，Y坐標(biāo)）和臥式（X，Z坐標(biāo)）
三、的應(yīng)用：
主要應(yīng)用于二維尺寸的精密測(cè)量，測(cè)量精度可達(dá)0.001mm級(jí)，被廣泛應(yīng)用于模具制造、電子、五金等行各業(yè)的精密檢測(cè)。
隨著科技的發(fā)展和技術(shù)的進(jìn)步，測(cè)量投影儀由早期的簡(jiǎn)單的輪廓比對(duì)，發(fā)展成為二維測(cè)量，并出現(xiàn)了，X、Y、Z三軸電動(dòng)控制和計(jì)算機(jī)軟件支持等新技術(shù)。
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