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分光橢偏儀SEMILAB在線光譜橢偏儀SE-3000

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產品介紹

SE-3000光譜橢偏儀專為滿足微電子、平板顯示、鍍膜等領域的開發和測試線需求而設計。SE-3000 基于 Semilab的前身，結合了兩個晶圓 FOUP 裝載端口、一個高速平臺、一個搬運機器人和一個高速預對準站，以實現高吞吐量。SE-3000 在光譜范圍、性能和光斑尺寸方面具有高性能規格。

用于圖案化晶圓應用的微點光譜橢偏儀。在沉積過程中，高精度評估薄膜和多層膜的膜厚值和折射率分布（折射率、消光系數）。旋轉補償器型光譜橢偏儀通過測量從紫外區到近紅外區的寬波長范圍實現高精度測量。可用于半導體工藝中薄膜、多層膜、外延層等薄膜。

SE-2100光譜橢偏儀是一款研發用的光譜橢偏儀，由帶安全罩的實驗室設備SE-2000和高速樣品臺組成。

因為是帶安全罩的規格，所以可以在安全性嚴格的制造工序中使用。適用于評估有機EL、太陽能電池和平板顯示器的薄膜厚度和光學特性。自動高度調節傳感器可實現快速測繪測量。應用包括印刷電子、光學和電氣計量、薄膜涂層表征和層厚控制。

分光橢偏儀 SE-2000 的特點

多項銷售業績

旋轉補償器型高精度測量

使用高分辨率陣列檢測器進行高速測量（數秒/點）

光電倍增管PMT高精度測量

背面反射效應去除功能

用戶友好的軟件

廣泛的數據庫

具有各種選項的可擴展性

它結合了激光橢圓儀和光譜反射儀，并配備了高精度 XY 平臺。測量單層和多層的厚度和光學特性（n 和 k）。測量是非破壞性和非接觸式的。

Semilab 的孔隙度計系列 (PS) 計量系統采用光學孔隙度計 (EP) 技術來測量厚度、折射率、孔隙率、孔徑分布、楊氏模量和阻擋層完整性。PS 系統將高真空室中的溶劑吸附實驗與 Semilab 的光譜橢偏儀 (SE) 技術相結合，為當前和未來工藝的開發、評估和監控提供了全面的計量解決方案。特別是，它解決了多孔低的集成挑戰-k 材料。

PS 產品線提供各種級別的自動化和晶圓尺寸功能，從優惠券到 450 毫米晶圓。這種專有技術無需樣品刮擦或制備即可實現 CVD 和旋涂多孔薄膜的結構表征。

Semilab AMS 的 SW-3300 使用專有的 SurfaceWave™ 技術來測量薄膜金屬和電介質的厚度和均勻性。它專為銅和低 k 材料開發，是一種低成本但功能強大的產品。非常適合瓶形溝槽、直溝槽和介電層的厚度和成分測量。