MARIO NETWORK紫外線臭氧清洗機OPL2001

MARIO NETWORK紫外線臭氧清洗機OPL2001

OPL2001 OPL1102 OPL2003

高輸出&長壽命燈搭載，0.1秒到999小時的定時關閉，搭載時間表，內置可簡單調整距離的專用實驗室千斤頂。附帶互鎖裝置(可選)也有準備。

UV表面處理UV清洗/UV表面改性

UV臭氧清洗，UV臭氧改性，表面處理

254nm照度:20mw /cm2以上。也有30mw / m2的。(定制)

用于實驗、研究開發，是日本具實際成果的臺式設備。大學院，各種研究設施，亞洲歐洲實驗/開發/生產用等廣泛的用途被采用。表面處理(光表面改性，光清洗)

UV表面處理的機制包括:

UV所具有的能量：185nm波長UV引起的氧的臭氧化，254nm波長UV的臭氧活性氧分子化

為了被活用，能同時得到[UV的能量]和[活性氧分子],低壓水銀燈(185nm, 254nm同時發光燈)適合作為光源。作為秘訣使用石英玻璃的燈，可以得到優良的臭氧發生率。

OPL16N內置的110w燈產生的臭氧是15w的GL-15燈的156倍以上。在化學反應中，如果只是把氫和氧混合在一起，反應就無法進行，要使其產生反應，就要通過“燃燒"給予能量，使其產生反應。

UV清洗臭氧的氧分子和物質表面的有機物的化學反應中，UV作為其能量發揮作用。

該反應以“高濃度臭氧"、“UV能量強"促進，具體來說“強有力的洗凈力帶來的UV洗凈效果"和“縮短時間的高效實驗研究"等成果。本裝置受歡迎的理由之一是能夠同時獲得強UV強度和高濃度臭氧。配備了大功率石英燈(185nm、254nm同時發光燈)。