- 20秒內(nèi)獲得高準(zhǔn)確度的結(jié)果(例如：低合金鋼)- 定期維護(hù)的工作量(火花臺(tái)清洗)減少8倍 – 元素在低合金鋼中平均檢測(cè)限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測(cè)限改善5倍 – 儀器的占地面積減少27% – 單一標(biāo)樣實(shí)現(xiàn)整個(gè)系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)化, 此項(xiàng)每天可節(jié)省30分鐘工作時(shí)間 作為電弧/火花創(chuàng)新技術(shù)，40多年來(lái)，SPECTRO全心投入開發(fā)出的發(fā)射光譜儀。，斯派克公司引入CMOS探測(cè)器技術(shù)，*改變了電弧/火花分析技術(shù)的走向及未來(lái)。在同類分析儀中，SPECTROLAB S所提供分析速度出想象，元素檢測(cè)限低至，同時(shí)她也可以提供長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間和非常具有前瞻性的靈活性。
SPECTROLAB S 擁有上基于CMOS的探測(cè)器的記錄系統(tǒng)，該系統(tǒng)非常適合于金屬分析。從微量元素到多基體應(yīng)用，它提供了極其快速、高度準(zhǔn)確、異常靈活的技術(shù)選擇。 樣品的分析速度是儀器性的重要標(biāo)志，SPECTROLAB S的推出*了金屬分析市場(chǎng)對(duì)速度的需求。例如：當(dāng)檢測(cè)低合金鋼時(shí)，它可以在20秒或更短的時(shí)間內(nèi)提供高準(zhǔn)確度的測(cè)量值! 從技術(shù)指標(biāo)和實(shí)際使用效果看，SPECTROLAB S均是目前金屬冶煉廠選的、高性能的光譜儀。對(duì)于金屬再加工生產(chǎn)商、汽車和航空航天制造商、以及成品和半成品、電子產(chǎn)品、半導(dǎo)體等制造商來(lái)說，她給出的解決方案同樣出色。 創(chuàng)新點(diǎn)：
1、雙光室，確保分析譜線都獲得分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的光學(xué)系統(tǒng)。一個(gè)光室精確測(cè)量波長(zhǎng)從120到240納米(nm);另一個(gè)光室，波長(zhǎng)范圍從210到800納米(nm)。 兩個(gè)光室都采用的CMOS檢測(cè)器，具備恒溫裝置和壓力補(bǔ)償功能
2、等離子發(fā)生器數(shù)字光源和點(diǎn)火板 可靠的新型高能LDMOS等離子發(fā)生器光源，為SPECTROLAB S 輸出穩(wěn)定的火花放電，頻率1000 Hz。結(jié)果：的測(cè)量時(shí)間(例如：分析低合金鋼小于 20 秒)。該系統(tǒng)還允許特定應(yīng)用的火花參數(shù)設(shè)置，以優(yōu)化分析性能。
3、精密氬氣控制系統(tǒng) SPECTROLAB S 采用程控流量。軟件根據(jù)分析程序精密設(shè)置氬氣流量。節(jié)約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺(tái)，無(wú)需管道連接。避免漏氣。
4、火花臺(tái)清理間隔較大程度延長(zhǎng) 堅(jiān)固的陶瓷內(nèi)芯避免積塵粘附。流暢的氣路設(shè)計(jì)確保了的粉塵殘留(使得清理間隔時(shí)間延長(zhǎng)了8倍);對(duì)于大樣品量輸出的全自動(dòng)光譜儀系統(tǒng)尤為重要。
5、快速讀出系統(tǒng) 斯派克的GigE創(chuàng)新讀出系統(tǒng)確保海量數(shù)據(jù)的極速處理，從而支持的儀器性能表現(xiàn)。實(shí)現(xiàn)了*的全光譜范圍譜圖記錄。
6、低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術(shù)，在關(guān)鍵元素的檢測(cè)限方面，越光電倍增管技術(shù)的性能。通過配置參比通道，工作曲線可以較大程度獲得優(yōu)化。可以快速定量分析ppm量級(jí)的高純金屬或合金中的痕量元素。
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