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SemiPOL高精密定量研磨機

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更新時間：2025-05-12 08:00:32瀏覽次數：83次

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產品簡介

?SemiPOL能夠對各種材料(光學鏡片、半導體晶片、金屬非金屬晶相)進行精確的研磨拋光，從而進行顯微鏡(SEM、FIB、TEM等)分析。

詳細介紹

SemiPOL 高精密定量研磨機

SemiPOL能夠對各種材料(光學鏡片、半導體晶片、金屬非金屬晶相)進行精確的研磨拋光，從而進行顯微鏡(SEM、FIB、TEM等)分析。目標精度微米級。主要作平行研磨拋光，結合更多附件，使復雜異形件及面的研磨拋光更容易。實時監控材料去除量，或量化設定材料磨屑量并實現無人值守操作。雙步進電機驅動，分別控制研磨座擺動速度和幅度提高研磨件平面度、光整度及研磨耗材利用率。

產品特點

（1）研磨盤尺寸：8英寸(Φ203mm)；

（2）研磨盤轉速：0–600rpm，可正轉/反轉；

（3）液晶屏實時顯示材料去除量，分辨率1um，穩定精度10um；

（4）可設定材料磨削量，分辨率1um，穩定精度10um，磨屑量到達設定值，設備自動停止運行；

（5）可設定研磨時間，研磨時間到達設定值，設備自動停止運行；

（6）7英寸液晶顯示/觸摸屏，可保存/編輯至少20組參數；

（7）樣品可自轉，可不轉，可往復擺動，擺動幅度可調；

（8）自動/手動控制冷卻水通斷；

（9）主軸電機功率750W，采用伺服電機，大扭矩、恒扭矩輸出；樣品擺動采用步進電機，扭矩更大更耐用；

技術參數

型號	SemiPOL
工作盤	直徑	8英寸
	轉速	0-600rpm，無極調速
	轉向	CW/CCW
	功率	750W
	出廠校驗	平面度<2um
樣品夾持頭	轉速	0-50rpm，無極調速
	轉向	CW/CCW
	半幅旋轉	有，幅度可調
	擺動	有，幅度、快慢可調
	出廠校驗	與盤垂直度<2um;與平行度<2um
	去除量	20mm
電氣	電源	220VAC
面板	7英寸觸摸屏
尺寸	WxDxH	700x430x580mm
重量	57kg