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全球半導體材料出現(xiàn)了三次突破性的發(fā)展進程

時間:2021-9-22閱讀:670
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經(jīng)過60多年的發(fā)展,全球半導體材料出現(xiàn)了三次突破性的發(fā)展進程。第一代半導體材料Si和Ge奠定了計算機、網(wǎng)絡和自動化技術發(fā)展的基礎,第二代半導體材料砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)奠定了信息技術的發(fā)展基礎。


目前正在快速發(fā)展的第三代半導體材料碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鎵(Ga2O3)、氮化鋁(AlN)、金剛石(C)等,主要面向新一代電力電子、微波射頻和光電子應用,在新一代移動通信、新能源并網(wǎng)、智能電網(wǎng)、高速軌道交通、新能源汽車、消費類電子、新一代顯示等領域有廣闊的應用前景,成為全球半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展新的戰(zhàn)略高地。


我國的半導體材料和器件,長期依賴進口,其中高性能芯片*依賴進口,受制于人的問題突出。除芯片設計與制造能力薄弱外,半導體單晶硅和大量輔助材料的國產(chǎn)化水平不足,進口依賴程度較高,如在電子氣體、光刻膠和拋光材料等3種典型輔助材料領域,國內(nèi)企業(yè)生產(chǎn)的產(chǎn)品*分別僅占30%、10%、10%,亟需提升我國半導體關鍵原輔材料的自主保障能力。

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