科視達（中國）有限公司
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Quanta 250
安裝要求
(更多的數據請參考“預安裝手冊")
?電源:電壓230V(+6%,-10%),
頻率50or60Hz(+/-1%)
?耗電量:電鏡基本系統<>
?接地:<>
?場地環境:工作溫度15°C-25°C；
?相對濕度
<>
<100nt(非同步頻率，水平x>
<300nt(同步頻率，水平x>
?門寬:90cm
?重量:主機重量約450kg
?干燥氮氣(推薦使用):0.7-0.8bar,
放氣時流速10l/min
?噪音:<>
?振動(需場地測試確定)
?減振臺可選
節能措施
?EnergyStar認證的顯示器和工作站
?無需冷卻水和空壓機
系統控制
?基于Windows®XP操作系統的32位圖形用戶界面，
?鍵盤，光電鼠標
?1個/2個*19寸液晶顯示器,分辨率1280x1024
?軟件驅動的輸入/輸出共享器*
?游戲操縱桿*
?多功能控制板*
圖像處理器
?4096x3536像素
?圖像文件格式：TIFF(8or16bit),BMPorJPEG
?單窗口或四窗口圖像顯示
?四活動窗口
?實時或靜態信號按彩色或按灰度等級混合
?256幀平均或積分
?數字動畫記錄(.avi格式)
?直方圖及圖像測量軟件
支持軟件
?SmartSCAN™智能掃描技術
?蒙太奇圖像導航
?軟件溫度控制
?FEI動畫生成工具
系統選項
?減速模式
?多功能控制板
?支持計算機(包括第二個19寸液晶顯示器)
?軟件控制的Peltier冷臺
?軟件控制的WetSTEM™
?軟件控制的1000°C熱臺
?軟件控制的1500°C熱臺
?游戲操縱桿
?樣品電流探測
?遠程控制
?視頻打印機
?樣品座套件
?機械泵隔音罩
?7針或52針電氣接口
?靜電電子束束閘
?波譜儀接口
?更換成無油機械泵套件
?輔助氣體接口(采用非水氣體)
通用第三方附件
?能譜儀
?波譜儀
?EBSD
?冷臺
?陰極熒光譜儀
?樣品電流探測器
?納米機械手
?CAD導航
?電子探針臺
軟件選項
?遠程控制/觀察軟件
?圖像分析軟件
?基于Web的數據庫軟件
?高度分布/粗糙度測量軟件
支持文檔
?在線幫助
?入門培訓CD
?RAPID™(遠程診斷軟件)
?免費連接到FEI用戶群在線資源庫
?免費加入FEI環境掃描用戶俱樂部
研究各種各樣的材料，并進行結構和成份表征，是目前對掃描電鏡的主流應用要求。FEIQuanta™系列靈活、通用，足以應對當今人們廣博的研究方向這一挑戰。“分析任何樣品，得到所有數據"，在Quanta上可得到表面像和成份像，并可輔以多種附件來確定材料的性質和元素組成。
當今人們利用掃描電鏡研究的材料早已超出單純的金屬和經導電處理過的樣品。Quanta對任何樣品都可得到高質量的圖像和分析結果。無論是對現今的或是將來的應用領域，FEI的Quanta50系列都是一個的、靈活的解決方案。其特點是，具有高真空、低真空和ESEM™環境真空三種真空模式，適合分析泛的樣品范圍，從傳統的金屬材料、斷口和拋光斷面，到不導電的軟物質。
Quanta系列用戶界面使用起來十分方便、靈活，有多種功能地發揮其使用效率，并且允許采集所有需要的數據。它是電鏡專家設計來給電鏡專家使用的儀器，性能遠不止“簡便易用"。這些功能有：*的圖像導航功能包括蒙太奇圖像導航、鼠標雙擊樣品臺移動、鼠標拖曳放大居中功能以及其它標準的特色術；SmartSCAN™，一種智能掃描技術，能降低信號噪音，提供更好的數據；電子束減速模式，一個新的選項，將鎢燈絲掃描電鏡的低加速電壓性能提高到一個全新的水平；Nav-Cam™彩色圖像導航器及新開發的探測器也大大增加了其靈活性。
更多數據、更多靈活性、更高效率，Quanta系列使您的投資更具價值。
主要優點
?在各種操作模式下分析導電和不導電樣品，得到二次電子像和背散射電子像
?降低樣品制備要求:低真空/環境真空技術使得不導電樣品和/或含水樣品不經導
電處理即可直接成像和分析，樣品表面無電荷累積現象
?的“穿過透鏡"的壓差真空系統，對導電和不導電樣品都可進行EDS/EBSD分析，不管是在高真空模式或在低真空模式。穩定的大束流(2μA)確保能譜及EBSD分析工作的快速、準確
?電鏡可作為一個微觀實驗室。安裝特殊的原位樣品臺后，在從-165°C到1500°C溫度范圍
內，對多種樣品保持其原始狀態下進行動態原位分析
?對導電樣品，可選用減速模式得到表面和成份信息
?直觀、簡便易用的軟件，即使電鏡新手也能輕易上手
典型應用
?納米表征
?金屬及合金,氧化/腐蝕,斷口,焊點,拋光斷面,磁性及超導材料
?陶瓷,復合材料,塑料
?薄膜/涂層
?地質樣品斷面,礦物
?軟物質:聚合物,藥品,過濾膜,凝膠,生物組織,木材
?顆粒,多孔材料,纖維
原位過程分析
?增濕/去濕
?浸潤行為/接觸角分析
?氧化/腐蝕
?拉伸(伴隨加熱或冷卻)
?結晶/相變
納米原型制備
?電子束曝光(EBL)
?電子束誘導沉積(EBID)
主要參數
電子光學
?高性能電子光學鏡筒，雙陽極熱發射電子槍
?固定式物鏡光闌，使用方便
?45°錐度物鏡極靴，及“穿過透鏡"的壓差真空系統
?加速電壓:200V-30kV
?束流:2μA并連續可調
?放大倍數:13x–1,000,000x
分辨率
?高真空
-30kV下3.0nm(SE)
-30kV下4.0nm(BSE)*
-3kV下8.0nm(SE)
?高真空下減速模式*
-3kV下7.0nm*
?低真空
-30kV下3.0nm(SE)
-30kV下4.0nm(BSE)
-3kV下10nm(SE)
?環境真空(ESEM)
-30kV下3.0nm(SE)
檢測器
?E-T二次電子探頭
?大視場低真空氣體二次電子探頭(LFD)
?氣體二次電子探頭(GSED)
?樣品室紅外CCD相機*
?高靈敏度、低電壓固體背散射探頭*
?氣體背散射探頭*
?四分固體背散射探頭*
?閃爍體型背散射探頭/CLD*
?vCD(低電壓高襯度探頭)*
?電子束流檢測器*
?分析型氣體背散射探頭(GAD)*
?Nav-Cam™–光學相機彩色成像，用于樣品導航*
?陰極熒光探測器*
?能譜*
?波譜*
?EBSD*
真空系統
?1個250l/s渦輪分子泵,1個機械泵
?的“穿過透鏡"的壓差真空系統
?電子束在氣體區域的行程：10mm或2mm
?可升級成無油機械泵
?樣品室真空度(高真空模式)<>
?樣品室真空度(低真空模式)<>
?樣品室真空度(環境真空模式)<>
?典型換樣時間:高真空模式≤150秒；
低真空及環境真空模式≤270秒(FEI標準測試程序)
樣品室
?左右內徑284mm
?10mm分析工作距離
?8個探測器/附件接口
?EDS采集角:35°
樣品臺
?X/Y=50mm
?Z=50mm(其中馬達驅動25mm)
?手動傾斜：-15°to+75°
?連續旋轉360°
?重復精度:2μm(X/Y方向)
?全對中樣品臺
樣品座
?多樣品座
?單樣品座
?適用于硅片或其它特殊要求的樣品座*
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