【儀表網(wǎng) 儀表標準】7月24日，全國幾何量工程參量計量技術委員會發(fā)布了《光學干涉式薄膜測厚儀校準規(guī)范》征求意見稿，現(xiàn)開始廣泛征集意見，意見反饋郵箱mtc4@vip.sina.com。
光學干涉式薄膜測厚儀具有非接觸、多材料、安全性高等優(yōu)點，在薄膜厚度測量領域中具有廣泛的應用。目前，制約著光學干涉式薄膜測厚儀測量性能的主要因素是測量系統(tǒng)自身存在的各種誤差，如系統(tǒng)參數(shù)誤差、系統(tǒng)模型誤差、溫度漂移誤差、數(shù)據(jù)處理誤差等。
因此，為了保證測量結果的準確性，在利用光學干涉式薄膜測厚儀對薄膜厚度進行測量前，應對測量儀器進行校準。校準工作作為光學干涉式薄膜測厚儀研制中的核心技術之一，是薄膜厚度測量量值傳遞的重要環(huán)節(jié)。現(xiàn)階段，國內(nèi)從事光學干涉式薄膜測厚儀生產(chǎn)的單位較多，各家產(chǎn)品型號各異，由于沒有合適的校準規(guī)范作為參考依據(jù)，之前對光學干涉式薄膜測厚儀的校準工作大多參照生產(chǎn)廠家對自家產(chǎn)品特性要求或是儀器使用說明書進行。
為了規(guī)范光學干涉式薄膜測厚儀的校準工作，使其校準有章可循，亟需編制《光學干涉式薄膜測厚儀校準規(guī)范》。
本規(guī)范依據(jù)JJF1071-2010《國家計量校準規(guī)范編寫規(guī)則》、JJF1001-2010《通用計量術語及定義》和JJF1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》規(guī)定的規(guī)則編寫。
本規(guī)范參考了GB/T 14847-2010《重摻雜襯底上輕摻雜硅外延層厚度的紅外反射測量方法》、JJF 1306-2011《X射線熒光鍍層測厚儀校準規(guī)范》的相關內(nèi)容。
本規(guī)范引用的文件有GB/T 14847-2010 重摻雜襯底上輕摻雜硅外延層厚度的紅外反射測量方法；JJF 1306-2011 X射線熒光鍍層測厚儀校準規(guī)范。
依據(jù)JJF1071-2010《國家計量校準規(guī)范編寫規(guī)則》，本規(guī)范在架構上包括引言、范圍、引用文件、概述、計量特性、校準條件、校準項目和校準方法、校準結果的表達、復校時間間隔和附錄等內(nèi)容。
本規(guī)范為發(fā)布。本校準規(guī)范適用于測量范圍為(10-300)μm、分辨力為0.01μm光學干涉式薄膜測厚儀的校準。(詳情請見附件)
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