GALVANOTEST 2000庫(kù)侖電鍍層測(cè)厚儀利用庫(kù)侖電量分析原理，測(cè)量鍍層、多層鍍層。符合標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177。

GALVANOTEST2000電鍍層測(cè)厚儀，GALVANOTEST2000電解膜厚儀技術(shù)參數(shù)：
GALVANOTEST 可以測(cè)量
可以測(cè)量70種以上鍍層/基體組合
可以測(cè)量平面、曲面上的鍍層
可以測(cè)量小零件、導(dǎo)線、線狀零件
預(yù)置10種金屬的測(cè)量參數(shù)：Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘、Au金（需提供樣品確定）
預(yù)置9種金屬的測(cè)量參數(shù)：Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘。
用戶(hù)可另設(shè)置1種金屬的測(cè)量參數(shù)
 
測(cè)量機(jī)構(gòu)：
帶循環(huán)泵
帶氣泵
測(cè)量面積：
密封墊 8 mm2
密封墊 4 mm2
密封片 1 mm2
密封片 0.25 mm2（涂鍍層面積幾乎小得看不見(jiàn)）
電解杯 0.25-16 mm2 （可選件）
 
測(cè)量參數(shù)*化調(diào)整：
除鍍速度0.3-40 μm/分鐘可調(diào)
根據(jù)金屬和測(cè)量表面可直接調(diào)整系數(shù)
可用厚度標(biāo)準(zhǔn)樣板校準(zhǔn)
可調(diào)整終點(diǎn)電壓，以抗干擾，適應(yīng)鍍層/基體之間的合金