本儀器利用光柵衍射原理，把復合光分解為一系列高純度的單色光。主要用于物質的定量和定性分析、光源特性研究，溶液的濃度、透明物質的光學特性測定等工作。因此，光柵單色儀可廣泛地用于化學、食品、制藥、冶金、造紙、建筑、材料、儀器儀表、環境保護等部門以及大專院校及科研機構等。
在光學真空鍍膜技術中，為精確的控制膜層厚度，需用光電系統進行控制，而則是其中*的主要儀器。
本儀器利用光柵衍射原理，把復合光分解為一系列高純度的單色光。主要用于物質的定量和定性分析、光源特性研究，溶液的濃度、透明物質的光學特性測定等工作。因此，光柵單色儀可廣泛地用于化學、食品、制藥、冶金、造紙、建筑、材料、儀器儀表、環境保護等部門以及大專院校及科研機構等。
在光學真空鍍膜技術中，為精確的控制膜層厚度，需用光電系統進行控制，而單色儀則是其中*的主要儀器。
本儀器采用典型的C-T型水平對稱光學系統，此系統結構簡單、透光率高。突出特點在出射狹縫處可獲得一定寬度的平直譜面。采用光柵分光，正弦機構由精密的螺紋副組成，顯著提高了儀器的波長精度、分辨率等指標。本儀器配有機械計數器，能夠直接讀出波長。狹縫0.02mm-3mm連續可調，高度2、4、6、8、10mm五檔。
主要技術指標：
焦距：300mm
波長范圍：330nm-1000nm（可選用不同規格的光柵，工作波段范圍可擴展至200nm-20μm內的相應波段）
波長準確度：±0.2nm（1200L/mm光柵）
波長重復性：0.1nm （1200L/mm光柵）
分辨率：≤0.2nm（1200L/mm光柵）
雜散光：≤1×10-3（He-Ne激光器，在632.8nm±8nm處測定）
狹縫：寬度0.01～3mm,高度1～10mm.
外形尺寸（長*寬*高）：385*260*200mm3。
