產品型號：SIR5000
產品特點：
1.采用新型的離子束光學系統，實現了離子束更細微化的聚焦。與現有的機型相比，實現了對更微小的缺陷部分的觀察和修正。 2.修正精度達到15nm（3Σ），可以做到高精度的修正。 3.采用Windows?2000基本的操作系統，實現了新開發的GUI環境。 4.增加了二次離子像，實現了對二次電子像的觀察及修正。
產品介紹：
利用聚焦離子束對半導體用遮掩板或者刻線上的缺陷部分進行修復的裝置。對Binary和Half tone mask上的微小缺陷以及復雜形狀的缺陷進行高精度和低損傷的修復。
依據FIB，對用于半導體的光刻掩模板和網狀結構上的缺陷進行修復、可以對Binary及Half Tone Mask等光刻掩模板上微小的缺陷和復雜形狀的缺陷做到高精度、低損耗的修復。
規格
型號 SIR5000
對應遮掩模尺寸 zui大7.25英寸
離子源 Ga液態金屬離子源
加速電壓 zui大30kV
修正精度 15nm（3σ）
觀察、修正使用的圖像 ·二次離子像
·二次電子像
zui小可以修正的線寬 360nm
：劉
-13
：landylau888
貿易通：jinhui8403
郵政編碼：518102
深圳市寶安大道鹽田商務廣場A座421室
