產品介紹：
在金相試樣制備和光譜分析應用中，試樣的磨平是金相制樣和光譜分析前的重要工序。GPM-2-300型光譜磨平機整機采用噴塑工藝制作，雙盤獨立控制，磨盤無級調速，罩殼設計可有效保障磨樣安全，機箱內裝有吸塵裝置可避免環境污染，該機啟動平穩、傳動功率大、噪音低，可滿足不同材料的制備要求，提高試樣的磨拋質量和制備效率，是一種非常合適和功能完善的金相制樣制備。
技術參數：
型號 | GMP-2-300 |
磨盤直徑 | 300mm |
砂紙直徑 | 300mm |
轉速 | 無級調速100~1400r/min 或四檔速300, 600, 900, 1400 r/min |
轉向 | 順時針或逆時針 |
電機功率 | 550W |
顯示及操作 | 數碼管顯示，薄膜按鍵操作，帶吸塵裝置 |
輸入電源 | 單相220V, 50Hz, 10A |
外形尺寸 | 820×440×940mm |
凈重 | 122kg |
| 產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
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