質(zhì)量流量控制器 V 系列 MFC
應(yīng)用場(chǎng)景:MFC 既可應(yīng)用于半導(dǎo)體前段制程,如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設(shè)備中, 也在光伏能源、真空鍍膜等領(lǐng)域有可觀的市場(chǎng)。 MFC 可通過(guò)對(duì)氣體流量的精準(zhǔn)控制,有效地提供更高的良率。
該系列產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的 etch(刻蝕)、CVD(化學(xué)氣相沉積)、PVD(物理氣相沉積)、ALD(原子層沉積)、MOCVD(金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積)等工藝設(shè)備中,也適用于如 MPCVD(微波等離子體化學(xué)氣相沉積)、解熱解凍干燥、石英提純、醫(yī)療廢棄物處理等領(lǐng)域。