概述
產品參數
專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩定觀察的半導體器件，高分辨成像所設計。
產品參數
新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)用改良的高真空性能和的電子束穩定性來實現高效率截面觀察。
采用全新設計的Super E x B能量過濾技術，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。
專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩定觀察的半導體器件，高分辨成像所設計。
新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)
用改良的高真空性能和的電子束穩定性來實現高效率截面觀察。
采用全新設計的Super E x B能量過濾技術，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。
| 產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
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