膜厚儀 FR-Mic 是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案，可以將 光斑縮小到幾個微米，進而分析微小區域或者粗糙表面薄膜特征。它可以配備一臺專 用計算機控 制的 XY 工作臺，使其快 速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特 性 。也可以搭配自動平臺測量 400x400mm 大小樣品。
Thetametrisis利用 FR-Mic，通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區域薄膜厚度，厚度映射，光學常數，反射率，折射率及消光系數進行測量。
【相關應用】
高校 & 研究所實驗室
半導體制造 (氧化物/氮化物， 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)
MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
LEDs, VCSELs 多層膜測量應用
數據存儲
陽極處理氧化膜
曲面基底的硬化涂層
聚合物膜層, 粘合劑.
生 物醫學(聚對二甲苯, 生物膜/氣泡壁厚度.)
OEM或客制化應用
【特點】
實時光譜測量
薄膜厚度，光學特性，非均勻性測量， 厚度映射
使用集成 USB 高品質彩色攝像機進行成像 (所視即所測)
【技術參數】
| 型號 | UV/VIS | UV/NIR-EXT | UV/NIR-HR | DUV/NIR | VIS/NIR | DVIS/NIR | NIR | NIR-N2 | |
| 光譜波長范圍(nm) | 200–850 | 200–1020 | 200-1100 | 200–1700 | 370–1020 | 370–1700 | 900–1700 | 900-1050 | |
| 光譜儀像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648 & 512 | 3648 | 3648 & 512 | 512 | 3648 | |
| 膜厚測量范圍 | 5X- VIS/NIR | 4nm-60um | 4nm-70um | 4nm-90um | 4nm-150um | 15nm-90um | 15nm-150um | 100nm-150um | 4um-1mm(SiO2) |
| 10X- UV/VIS/NIR | 4nm-50um | 4nm-60um | 4nm-80um | 4nm-130um | 15nm-80um | 15nm-130um | 100nm-130um | 4um-400um(Si) | |
| 15X- UV/NIR | 4nm-40um | 4nm-50um | 4nm-50um | 4nm-120um | - | - |
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| 20X- UV/VIS/NIR | 4nm-25um | 4nm-30um | 4nm-30um | 4nm-50um | 15nm-30um | 15nm-50um | 100nm-50um |
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| 40X- UV/NIR | 4nm-4um | 4nm-4um | 4nm-5um | 4nm-6um | - | - |
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| 50X- VIS/NIR | - | - | - | - | 15nm-5um | 15nm-5um | 100nm-5um |
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| 測量n&k蕞小厚度 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm |
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| 準度 3. | 0.1% or 1nm | 0.2% or 2nm | 50nm or 0.2% | ||||||
| 精度 4.. | 0.02nm | 0.02nm | 5nm | ||||||
| 重覆性 5. | 0.05nm | 0.05nm | 5nm | ||||||
| 光源 | 氘燈&鹵素燈(internal) | 鹵素燈(internal)10000 小時 (MTBF) | |||||||
| 材料數據庫 | >650內建材料數據庫 | ||||||||
*測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關。
| 物鏡 | 光斑尺寸(μm) | ||
| 500μm孔徑 | 250μm孔徑 | 100μm孔徑 | |
| 5x | 100μm | 50μm | 20μm |
| 10x | 50μm | 25μm | 10μm |
| 20x | 25μm | 17μm | 5μm |
| 50x | 10μm | 5μm | 2μm |
【工作原理】
規格如有更改，恕不另行通知
測量結果與校準的光譜橢偏儀和 XRD 相比較,
連續 15 天測量的標準方差平均值。樣品：(1um SiO2 on Si.) ,
100 次厚度測量的標準方差，樣品：1um SiO2 on Si.
超過 15 天的標準偏差日平均值樣品：1um SiO2 on Si。
使用反射式物鏡
以上資料來自Thetametrisis，如果有需要更加詳細的信息，請聯系我們獲取。
