XPF400C型偏光熔點儀 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
一、儀器的主要用途和特點 XPF400C型透射偏光熔點測定儀是地質、礦產、冶金、石油化工、化 學纖維、半導體工業以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子...等專業zui常用的專業實驗儀器??晒V大用戶作單偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察以及顯微攝影,來觀察物體在加熱狀態下的形變、色變及物體的三態轉化。 本系統廣泛應用于高分子材料、聚合物材料等化工領域,適用于研究物體的結晶相態分析、共混相態分布、粒子分散性及尺寸測量、結晶動力學的過程記錄分析、液晶分析、織態結構分析、熔解狀態記錄觀察分析等總多研究方向。 偏光顯微熔點測定儀XPF400C系統匯集了光電、模式識別、精密加工、圖象學、自動控制、模量學等總多研究領域的當前技術,多年研究開發的結果,在國內享有.本儀器的具有可擴展性,可以接計算機和數碼相機。對圖片進行保存、編輯和打印。
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