等離子清洗機 樣品活化處理
該清洗機內置高純石英倉體，容積為2升。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術，使其有效容積增大，不同真空 氣體環境下容易匹配，且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗 樣品清洗 和教學。
等離子清洗機 樣品活化處理
該清洗機內置高純石英倉體，容積為5升。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術，使其有效容積增大，不同真空 氣體環境下容易匹配，且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗 樣品清洗 和教學。
等離子清洗機 樣品活化處理
40KHz和13.56MHz等離子清洗機是兩種工作頻率不同的等離子清洗設備。它們之間的主要區別如下：
1. 工作頻率：40KHz等離子清洗機的工作頻率為40千赫（40,000赫茲），而13.56MHz等離子清洗機的工作頻率為13.56兆赫（13,560,000赫茲）。工作頻率不同會導致設備清洗效果和適用范圍上的差異。
2. 清洗效果：40KHz的低頻等離子清洗對于大多數材料都可以達到較好的清洗效果，但對于一些微米或亞微米級別的顆粒或污染物去除效果可能不佳。而13.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒尺寸較小的污染物方面具有更高的功效，能夠提供更*的清洗效果。
3. 清洗速度：13.56MHz等離子清洗速度相對更快，因為具有更高的頻率，能更快地傳遞能量，從而更有效地去除表面污垢。
4. 適用范圍：40KHz等離子清洗適用于大部分材料的表面清洗及去除較大顆粒尺寸的污染物，如塑料、金屬、玻璃等材料。13.56MHz等離子清洗則更適用于對微米級污染物及顆粒清洗要求較高的應用，如微電子、半導體、光學等行業。
5. 成本：由于13.56MHz等離子清洗技術較復雜，設備制造成本相對較高，價格可能會比40KHz的設備更貴。但根據不同的實際應用需求，適用領域和性能要求可能需要使用較高成本的清洗設備。
綜上所述，40KHz和13.56MHz等離子清洗機主要區別在工作頻率、清洗效果、清洗速度、適用范圍及成本等方面，用戶應根據自身的需求和應用領域選擇合適的設備。
等離子清洗機 樣品活化處理
電感耦合和電容耦合是等離子清洗機中兩種不同的能量傳遞方式，它們的主要區別在于能量傳遞的方式和應用場景。
1. 電感耦合（Inductively Coupled Plasma, ICP）：
電感耦合等離子體是通過高頻磁場與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電感耦合的過程中，高頻電流通過螺線管產生高頻磁場，高頻磁場切割等離子體產生渦旋電流，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優點是穩定性好，能量傳遞高效，適用于高密度等離子體的產生，廣泛應用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領域。
2. 電容耦合（Capacitively Coupled Plasma, CCP）：
電容耦合等離子體是通過交變電場與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電容耦合的過程中，兩個電極之間施加高頻交變電壓，由于等離子體與電極之間的電容效應，導致等離子體內部產生高頻電場，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優點是結構簡單，能量傳遞相對低效，適用于低密度的等離子體產生，常用于等離子清洗、薄膜沉積等應用場景。
總結：
電感耦合和電容耦合的主要區別在于能量傳遞的方式，電感耦合通過高頻磁場傳遞能量，適用于高密度等離子體；而電容耦合通過交變電場傳遞能量，適用于低密度等離子體。根據實際應用場景和等離子體要求，可以選擇不同的能量傳遞方式。
