產品簡介
- 全新立式全譜光譜采用國際標準的設計和制造工藝技術，采用全數字技術，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術，與國際光譜儀技術同步，采用真空光學室設計及全數字激發光源、的ＣＣＤ檢測器，高速數據讀出系統，使儀器具有的性能、極低的檢出線、長期的穩定性和重復性。適用于金屬制造業、加工業及金屬冶煉業用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的主要設備之一。
產品特點
- 優化設計的真空光學系統：整體光學室裝置、帕邢-龍格結構設計，所有譜線集成在羅欄園上；直射式光學技術及透鏡ＭｇＦ２材料，保證Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｎ紫外波長的能量。
- 全數字激發光源：全數字、高能預燃技術（HEPS），不同樣品設置不同的激發參數，提高樣品的測量精度和相似性，提高樣品激發速度，提高火花穩定性，使樣品有更好的重現性。
- 功能性設計的激發裝置：集成氣路、噴射電極技術，開放式銅火花臺，不僅保證樣品測量精度還能購測量各種復雜形狀的樣品（含線材），單板式透鏡裝置設計，一般人員都能方便對激發臺進行進行維護和透鏡的清洗。
- 高集成、高速度讀出系統：高性能CCD固態檢測技術，波段內譜線全譜接收； FPGA及高速數據通訊技術，數據讀入功能強大，檢測數據整體讀入時間短。
- 直觀、易操作的分析軟件：基于WINDOWS系統的多國語言的ＣＣＤ全譜分析軟件的管理和控制整個測量過程，為用戶提供強大的數據處理能力和測試報告輸出能力；儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質分析及*的解決方案；儀器實現全譜分析，智能扣干擾，扣暗電流、背景和噪聲的算法，極大的提高了儀器的分析能力。
技術參數
- 光學系統：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統；
- 波長范圍：170nm~580nm
- 焦距：400mm
- 探測器：高性能CCD陣列
- 光源類型：數字光源，高能預燃技術（HEPS）
- 放電頻率：100-1000Hz
- 放電電流：400A
- 工作電源：220VAC 50/60Hz
- 儀器尺寸：720*860*500
- 儀器重量：約100kg（不含真空系統）
- 檢測時間：依據樣品類型而定，一般25S左右
- 電極：鎢材噴射電
- 氬氣要求：99.999％
- 氬氣進口壓力：0.5MPa
- 氬氣流量：激發流量約3.5L/min
- 工作溫度：10℃～35℃
- 工作濕度：20％～85％
- 分析間隙：真空軟件自動控制、監測
