應用范圍：

該設備采用 e 型電子槍蒸發源，可蒸發各種高熔點金屬和氧化物，可在玻璃，塑料,陶瓷基體上鍍制各種多層薄,如:紅外膜、寬帶增透膜、分光膜、冷光膜、IR-CUT膜、干截止濾光片、偏振膜、電學膜，適用于眼鏡、光學鏡頭、精密光學元件、激光和電子行業的大規模工業生產.

主要特點：

l       電子槍輸出功率穩定，特殊結構設計有效杜絕二次電子的產生和電子槍打火。

l       轉動采用磁流體引入,長期運轉密封可靠。

l       工件轉動座多重水冷和重力導向設計，運轉平穩可靠，徑向和軸向跳動3-5mm。

l       采用PLC+觸摸屏控制, 多重泵閥水電互鎖互保護，可全程自動控制,包括真空系統,烘烤系統,整個蒸發鍍膜過程。

l       安裝采用全程四極質譜監控和氦質譜檢漏, 真空密封性好, 設備工藝穩定可靠。

l       所有零部件采用國內廠家, 電器元件采用進口或合資企業產品, 設備24小時連續長期運行可靠穩定。

基本參數：

1.      立式前開門結構，不銹鋼真空室Φ1300X1500mm

2.      極限真空：1×10^-4Pa（空載清潔真空系統，300°烘烤后）。

3.      恢復真空時間：大氣至4×10^-3Pa≤15min。

4.      大抽速主泵，KT-630型擴散泵（18000L/s）兩臺，配備防湍流裝置。

5.      工件轉動：采用磁流體密封轉動裝置，轉動座多重水冷和重力導向設計，運轉平穩可靠。

6.      工件烘烤：桶狀上烘烤,三點控溫,烘烤溫度350°。

7.      永磁E型電子槍，槍功率10KW/支；可配置單槍或雙槍，多穴坩堝和環形坩堝。

8.      配備美國Inficon公司生產的SQC310C 或IC6型石英晶體膜厚控制儀。

9.      10英寸觸摸屏和歐姆龍（PLC）編程控制器，對設備真空系統、蒸發源系統、烘烤系統、工件轉動系統、膜厚監控系統等進行監測和控制，可采用自動和手動兩種模式。

10.  可選配Φ16CM的離子源或深冷低溫冷阱。