H20-UVL真空紫外單色儀在高真空環境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。配備測微狹縫和蝸輪驅動實現快速精確的光譜掃描。搭配真空紫外光源使用，H20-UVL可作為一個優異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測器，H20-UVL還是一個性價比較高的真空紫外光譜分析系統。
主要特點
基于HORIBA Jobin Yvon技術，H20-UVL圍繞一片具有像差矯正能力的4型凹面光柵設計。64°偏轉角針對真空紫外波段優化。
這種簡單的光學設計大幅降低了像散，提高像平面的光通量和光譜純度，避免了傳統的Czerny Turner光路在140nm以下因為多次反射而造成的光強損失。
規格參數
透射反射測量
紫外可調濾波/光源
激光諧波濾波
真空紫外質量控制
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