特色
獨立的交鑰匙PLD系統(tǒng)。
外延薄膜、多層異質結構和超晶格的沉積。
納米級薄膜的沉積。
外延氧化膜沉積的可編程氧兼容加熱器。
自動多目標旋轉多層沉積。
全干式真空泵組。
通過系統(tǒng)軟件進行閉環(huán)壓力控制。
Pioneer 120 PLD System是基礎型獨立PLD系統(tǒng)，用于制備高質量的外延薄膜、多層異質結、超晶格等。該PLD系統(tǒng)與Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)和Pioneer 180 PLD系統(tǒng)的主要區(qū)別是襯底加熱階段。Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)使用導電加熱階段用于襯底加熱， 其他模型使用輻射加熱階段。為了達到950℃ 的額定高溫，基板必須與加熱板緊密接觸，用銀漿提供加熱板和基板之間的緊密接觸(當需要這些高溫時)。在不需要銀漿的情況下，還提供襯底夾來固定襯底。在這些情況下,襯底溫度可能低于額定950℃。加熱器是氧兼容的，能達到1大氣(760托)的氧, 這個特性有助于制備外延氧化薄膜：可能需要在氧氣環(huán)境后沉積和氧氣壓力接近1 atmosphere后退火冷卻。Pioneer 120 PLD系統(tǒng)包括一個自動多目標轉。
