產品賣點/SellingPoints
◆SCR和SNCR脫硝裝置氨逃逸在線分析的佳選擇
◆可以實現SCR和SNCR脫硝裝置出入口煙道NH3的單點在線監測和多點濃度分布在線監測
◆全程250℃高溫抽取式測量，樣氣輸送管道小于0.5米，過程中無冷凝和吸附
◆引進國外激光多次反射池技術，光程可達30米，檢測靈敏度更高
◆無零漂的鎖譜激光分析技術，免除儀表頻繁校準的煩惱
◆系統中可內置高溫NOX和O2傳感器，實現NH3、NOX和O2的全部高溫濕法測量
系統介紹/SystemDescription
在脫銷工藝氣體監測中，出口的氨逃逸(殘余氨)濃度檢測非常重要，這是因為氨逃逸是反映和考評脫銷效率的指標之一，同時過量的氨逃逸會生成銨鹽嚴重影響后續空預器等設備正常運行，因此NH3逃逸監測也是目前國內脫銷工藝中煙氣監測的重點和難點。HM-NH1000脫硝氨逃逸在線監測系統是我公司引進國外多次反射池技術針對脫硝的工藝特點和監測難點而開發設計的一款全程超高溫原位抽取式激光監測分析系統。
脫硝系統原理圖
應用領域/Applications
華敏測控高溫抽取式逃逸氨在線分析系統適用于眾多工業領域的氣體排放監測和過程控制，例如：燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、核電站、垃圾發電站、水泥廠和化工廠等領域。
核電站
化工廠
垃圾發電廠
燃煤發電廠
水泥廠
冶煉廠
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系統特點/SystemFeatures
◆光纖分布技術-實現主機與現場光學發射接收單元分離，可使一臺主機同時監測4個測點。
◆無需校正技術-分析儀采用內置標準氣體參比模塊，實時鎖住氨氣吸收譜線，不受溫度、電源以及系統部件老化影響，系統無漂移，避免了系統定期校正煩惱。
◆氣、鏡分離的多次反射池技術，多次反射池有效光程達到30米，靈敏度可達0.1ppm，被測氣體與反射鏡分離不接觸，氣體干擾不會影響儀表測量精度和反射鏡腐蝕。
◆所有樣品接觸部分均溫控到250℃，避免NH3與SO3產生NH4(HSO4)，造成采樣損失。
◆原位抽取采用方式沒有采樣管線，樣品氣體直接進入多次反射池，避免采樣損失。
◆采樣探頭采用精密過濾器，氣阻小，過濾精度高，氣體池光學鏡片無吹掃。
◆可實現單點檢測和濃度場分布檢測，一個機組可實現A、B側一拖二技術、性價比高。
◆可實現NH3、NOX和O2三組分同時檢測。
◆系統中無任何運動部件，可靠性高、響應速度快。
◆采用高溫抽取法測量NH3，與原位法相比，具有不受煙道內粉塵、溫度、壓力波動的影響，系統免維護。
系統技術參數列表/TechnicalParameters
系統配置
單通道HM10-NH3：適用于所有SCR/SNCR脫硝煙道單點監測
雙通道HM20-NH3：適用于一個機組的A、B煙道或自備電廠兩個小機組單獨煙道監測
三通道HM30-NH3：適合自備電廠3-4個小機組的單獨煙道監測或者SCR出口煙道分布
四通道HM40-NH3：式濃度監測
技術參數
測量原理：TDLAS
測量組分：NH3(可增加NOx和O2)
NH3：0-10ppm
量程范圍NOx：0-1000ppm
O2：0-21%
NH3：0.1ppm
分辨率NOx：1ppm
O2：0.01%
NH3：±0.1ppm
測量精度NOx：±3%F S
O2：±1% F S
響應時間：≤1S
儀表光程：30米
伴熱溫度全程：250℃
預熱時間：≤30min
探頭工作溫度：0-500℃
探頭長度：1200、1500
防護等級：IP55
系統電源：AC220V 50HZ ±10%
模擬量輸出：4-20mA 隔離輸出，大負載500Ω負載(曾加NOX和O2時有3組4-20mA輸出)
通訊接口：RS232、以太網
繼電器輸出：2路(干接點220V 1A)
工作環境
探頭環境溫度：-20—85℃
儀表環境溫度：-5—55℃
工作所需能源介質
電源：AC220V 50HZ ±10% 3000W
氣源：0.4-0.7MPa(凈化儀表壓空)
