NX-1000/2000整片基板納米壓印系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實(shí)時實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性能*穩(wěn)定。
具備全部壓印模式：熱固化、紫外固化和壓印。基于*的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)（ACP），不論模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu)，NX-1000/2000均可對其校正補(bǔ)償從而獲得*的壓印均勻性。
ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏移，有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設(shè)計(jì)可獲得快速的熱壓印周期，終得到快速的工藝循環(huán)。
主要特點(diǎn)：
所有形式的納米壓印
熱塑化
紫外固化 (NX-2000)
熱壓與紫外壓印同時進(jìn)行(NX-2000)
熱固化
氣墊軟壓技術(shù)(ACP)
Nanonex技術(shù)
完美的整片基板納米壓印均勻性
高通量
低于10nm分辨率
快速工藝循環(huán)時間（小于60秒）
靈活性
4″, 6″, or 8″壓印面積可選
各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可壓印
方便用戶操作
基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn)的自動化壓印操作
Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實(shí)時實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性能*穩(wěn)定
系統(tǒng)參數(shù)：
熱塑壓印模塊
溫度范圍0~250℃
加熱速度>300o℃/分鐘
制冷速度>150℃/分鐘
壓力范圍0 ~ 3.8MPa(500 psi)
紫外固化模塊(NX-2000)
200W窄帶紫外光源
365納米或395納米波長可選
全自動化控制
模版裝載功能
4″/5″/6″模版可用于標(biāo)配納米壓印系統(tǒng) 基板裝載
基板裝載
標(biāo)配納米壓印系統(tǒng)可裝載4″基板
6″和8″基板可選
各種尺寸及不規(guī)則形狀模板及基板均可壓印
*ACP技術(shù)可大限度保護(hù)基板和模板，特別對于象磷化銦（InP）等極易碎模板和基板給予大限度保護(hù)。
其他參數(shù)：
配有微軟Windows的電腦控制系統(tǒng)
用戶友好的控制軟件
程序化控制壓印溫度、壓力和時間
真空和壓縮空氣操作由電腦控制
手動裝載/拆卸基板
自動化壓印操作 設(shè)備占地面積:31 × 44 英寸
(780 mm × 1110 mm)
應(yīng)用領(lǐng)域:
納米電子和光電子、顯示器、數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)、*材料、生物科技、納米流道等。
