光學輪廓儀/3D顯微鏡 Zeta-300
Zeta-300具備Multi-Mode（多模式）光學系統、簡單易用的軟件、以及低擁有成本，適用于研發及生產環境。
Zeta-300支持3D量測和成像的功能，并提供整合隔離工作臺和靈活的配置，可用于處理更大的樣品。該系統采用ZDot™技術，可同時采集高分辨率3D數據和True Color（真彩）無限遠焦點圖像。Zeta-300具備Multi-Mode（多模式）光學系統、簡單易用的軟件、以及低擁有成本，適用于研發及生產環境。光學輪廓儀/3D顯微鏡 Zeta-300
產品描述光學輪廓儀/3D顯微鏡 Zeta-300
Zeta-300光學輪廓儀是一種非接觸式3D表面形貌測量系統。 Zeta-300繼承了Zeta-20的功能，并增加了隔離選項以及處理更大樣品的靈活性。 該系統采用ZDot™技術和Multi-Mode (多模式)光學系統，可以對各種不同的樣品進行測量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理，以及納米至毫米級別的臺階高度。
Zeta-300的配置靈活并易于使用，并集合了六種不同的光學量測技術。ZDot™測量模式可同時收集高分辨率3D掃描和True Color無限遠焦距圖像。其他3D測量技術包括白光干涉測量、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量。ZDot或集成寬帶反射計都可以對薄膜厚度進行測量。Zeta-300也是一種顯微鏡，可用于樣品復檢或自動缺陷檢測。 Zeta-300通過提供全面的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度的測量以及缺陷檢測功能，適用于研發及生產環境。
主要功能
· 采用ZDot和Multi-Mode（多模式）光學器件的簡單易用的光學輪廓儀，具有廣泛的應用
· 可用于樣品復檢或缺陷檢測的高質量顯微鏡
· ZDot：同時采集高分辨率3D數據和True Color（真彩）無限遠焦點圖像
· ZXI：白光干涉測量技術，適用于z向分辨率高的廣域測量
· ZIC：干涉對比度，適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數據
· ZSI：剪切干涉測量技術提供z向高分辨率圖像
· ZFT：使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率
· AOI：自動光學檢測，并對樣品上的缺陷進行量化
· 生產能力：通過測序和圖案識別實現全自動測量
主要應用
· 臺階高度：納米到毫米級別的3D臺階高度
· 紋理：平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度
· 外形：3D翹曲和形狀
· 應力：2D薄膜應力
· 薄膜厚度：30nm到100μm透明薄膜厚度
· 缺陷檢測：捕獲大于1μm的缺陷
· 缺陷復檢：采用KLARF文件作為導航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置
工業應用
· LED：發光二極管和PSS（圖案化藍寶石基板）
· 半導體和化合物半導體
· 半導體 WLCSP（晶圓級芯片級封裝）
· 半導體FOWLP（扇出晶圓級封裝）
· PCB和柔性PCB
· MEMS（微機電系統）
· 醫療設備和微流體設備
· 數據存儲
· 大學，研究實驗室和研究所
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