赫爾納-供應(yīng)VEECO其他設(shè)備
2m分辨率寬帶投影透鏡設(shè)計(jì)，用于封裝應(yīng)用曝光波長(zhǎng)為350-450 nm，用于處理眾多的包裝光敏材料。
可編程波長(zhǎng)選擇（GHI，GH，I）用于工藝優(yōu)化和工藝緯度
用于厚膠工藝和大晶圓形貌的大聚焦深度
高系統(tǒng)吞吐量有利于系統(tǒng)擁有成本
可縮短曝光時(shí)間。
赫爾納-供應(yīng)VEECO其他設(shè)備
赫爾納-供應(yīng)VEECO其他設(shè)備
德國(guó)總部直接采夠VEECO設(shè)備，原裝產(chǎn)品，貨期好，支持選型，為您提供一對(duì)一好的解決方案：赫爾納大連公司在中國(guó)設(shè)有10個(gè)辦事處，可為您提供好的維修服務(wù)。
公司簡(jiǎn)介：
VEECO設(shè)備公司設(shè)計(jì)、制造和銷(xiāo)售薄膜加工設(shè)備，使高科技電子設(shè)備的生產(chǎn)和開(kāi)發(fā)涉及世界各地。
VEECO設(shè)備公司經(jīng)證實(shí)的金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)、分子束外延(MBE)光刻、離子束、單晶圓刻蝕和清潔在生產(chǎn)用于固態(tài)照明和顯示器的發(fā)光二極管以及在制造電力電子、光子學(xué)、光學(xué)和半導(dǎo)體器件方面發(fā)揮著重要的作用。VEECO設(shè)備還為利用專有相干梯度傳感(CGS)科技的半導(dǎo)體晶片檢測(cè)市場(chǎng)提供解決方案，并向領(lǐng)頭的研究機(jī)構(gòu)提供原子層沉積(ALD)工具。
主要產(chǎn)品：
VEECO設(shè)備
VEECO激光發(fā)生器
VEECO AP 200/300光刻系統(tǒng)
VEECO LSA 101激光釘Anneal系統(tǒng)
VEECO LSA 201環(huán)境控制激光脈沖麻醉系統(tǒng)
VEECO 超高速4G晶片檢測(cè)系統(tǒng)
VEECO 氧氣壓力控制系統(tǒng)
VEECO 襯底加熱器
VEECO MBE系統(tǒng)電纜
VEECO Piezocon氣體濃度傳感器
VEECO 精密氣體混合系統(tǒng)
VEECO 離子刻蝕系統(tǒng)
產(chǎn)品特點(diǎn)：
VEECO設(shè)備 AP200/300
關(guān)鍵特征
2m分辨率寬帶投影透鏡設(shè)計(jì)，用于封裝應(yīng)用曝光波長(zhǎng)為350-450 nm，用于處理眾多的包裝光敏材料。
可編程波長(zhǎng)選擇(GHI，GH，I)用于工藝優(yōu)化和工藝緯度
用于厚膠工藝和大晶圓形貌的大聚焦深度
高系統(tǒng)吞吐量有利于系統(tǒng)擁有成本
可縮短曝光時(shí)間。
場(chǎng)尺寸為68乘26 mm，曝光兩個(gè)掃描器字段，減少了每個(gè)晶片的曝光步驟數(shù)。
扭曲晶片處理達(dá)±4mm的風(fēng)扇應(yīng)用
無(wú)硬件轉(zhuǎn)換的通用晶片處理(8和12英寸；或6和8英寸)
制作大面積插補(bǔ)器的現(xiàn)場(chǎng)拼接軟件
完整的Secs/GEM軟件包支持生產(chǎn)自動(dòng)化和設(shè)備/過(guò)程跟蹤
赫爾友道，融中納德-----我們無(wú)假貨，我們價(jià)格低廉，我們品質(zhì)好！
2m分辨率寬帶投影透鏡設(shè)計(jì)，用于封裝應(yīng)用曝光波長(zhǎng)為350-450 nm，用于處理眾多的包裝光敏材料。
可編程波長(zhǎng)選擇(GHI，GH，I)用于工藝優(yōu)化和工藝緯度
用于厚膠工藝和大晶圓形貌的大聚焦深度
高系統(tǒng)吞吐量有利于系統(tǒng)擁有成本
可縮短曝光時(shí)間。
