高通量多孔板優(yōu)化電穿孔系統(tǒng)
MOS系統(tǒng)由三個部分組成：脈沖發(fā)生器（ECM830/630）、MOS板處理儀、MOS板，該系統(tǒng)使用新的25孔（5×5）或96（8×12）孔板代替?zhèn)鹘y(tǒng)的樣
簡單介紹高通量多孔板優(yōu)化電穿孔系統(tǒng)
多孔板優(yōu)化電穿孔系統(tǒng)—HT-MOS（High-Throughput Multi-well Optimization System）, 用多孔板取代傳統(tǒng)的樣品電極杯，可同時處理大量常規(guī)樣品，大大提高了通量，并可進行實驗條件優(yōu)化，有效地加快實驗進程。 MOS系統(tǒng)由三個部分組成：脈沖發(fā)生器（ECM830/630）、MOS板處理儀、MOS板，該系統(tǒng)使用新的25孔（5×5）或96（8×12）孔板代替?zhèn)鹘y(tǒng)的樣
高通量多孔板優(yōu)化電穿孔系統(tǒng) 的詳細介紹
準確性：
擁有磚利技術(shù)的復合電極消除交叉污染，隨板附送的平板蓋保證樣品的潔凈。
快速性
的高通量表現(xiàn)，在數(shù)秒間完成多個樣品的電穿孔，適用于條件優(yōu)化選擇。
應用廣：
廣泛適用于高通量進行電穿孔條件優(yōu)化的實驗：哺乳動物細胞轉(zhuǎn)染；**、酵母和植物細胞的轉(zhuǎn)化；siRNA和cDNA文庫構(gòu)建等。
脈沖發(fā)生器：給MOS板處理儀提供電脈沖，與ECM630或ECM830兼容。
MOS板處理儀： HT-100MOS板處理儀需手動使脈沖一列一列依次進行，HT-200MOS板處理儀可自動將脈沖逐列傳遞。
電壓范圍： 0 to 3000 V 直流電脈沖
脈沖時間： 10μsec to 10 sec
脈沖次數(shù)： 1 to 99
MOS板：每一個MOS板包含96（8×12）或25（5×5）個獨立的小孔，每列設(shè)置不同的電穿孔參數(shù)，可進行快速的參數(shù)優(yōu)化，用于高通量
的樣品處理。電極材料為鋁合金，有不同的間距滿足用戶的不同需求。
型號 | HT-P25-2 | HT-P25-4 | HT-P96-2 | HT-P96-4 |
孔 | 5×5 | 5×5 | 8×12 | 8×12 |
電極間距 | 2mm | 4mm | 2mm | 4mm |
容積 | 125μl | 250μl | 125μl | 250μl |
