昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案：
等離子體是物質的一種存在的狀態，這些物質通常會以液態、固態、氣態三種存在；還有四種狀態就是等離子體狀態，在特殊的情況下，如地球大氣中電離層中的物質和太陽表面的物質。
等離子體中存在有些物質呢？當處于高速運動狀態下的電子處于激活狀態的中性原子、分子、原子團；離子華的原子、分子。
昆山國華提供等離子表面處理整體解決方案
等離子表面處理設備技術作為一種新型的材料表面改性方法，等離子表面處理設備因效果好被廣泛用各領域中，下面通幾個方面給大家介紹：
金屬表面去油及清洗：
金屬表面常常會有油脂、油污等有機物及氧化層，在進行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等離子表面處理設備來得到*潔凈和無氧化層的表面。
1.離子刻蝕：
在等離子刻蝕過程中，通過處理氣體的作用，被刻蝕物會變成氣相。處理氣體和基體物質被真空泵抽出，表面連續被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來（例如半導體行業用鉻做覆蓋材料）。
2.刻蝕和灰化：
聚四氟(PTFE)在未做處理的情況下不能印刷或粘合。*，使用活躍的鈉堿性金屬可以增強粘合能力，但是這種方法不容易掌握，同時溶液是有毒的。使用等離子方法不僅僅保護環境，還能達到更好效果。
3.塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗：
塑料、玻璃、陶瓷與聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一樣是沒有極性的，因此這些材料在印刷、粘合、涂覆前要進行處理。同時，玻璃和陶瓷表面的輕微金屬污染也可以用等離子方法清洗。等離子處理與灼燒處理相比不會損害樣品。同時還可以十分均勻地處理整個表面，不會產生有毒煙氣，中空和帶縫隙的樣品也可以處理。
·不需要用化學溶劑進行預處理
·所有的塑料都能應用
·具有環保意義
·占用很小工作空間
·成本低廉
等離子表面處理設備的效果可以簡單地用滴水來驗證，處理過的樣品表面*被水潤濕。長時間的等離子處理（大于15分鐘），材料表面不但被活化還會被刻蝕，刻蝕表面具有極小的表面接觸角和潤濕能力。
小型等離子清洗/刻蝕機的特殊應用：
小型等離子清洗機在處理TEM樣品具有明顯的優勢。處理后生成物為二氧化碳和水，不會對環境造成污染，由于TEM工作在非常潔凈的環境中，因此等離子清洗時目前處理TEM樣品為理想的技術。優勢在于：處理后*殘留物；可以防止TEM樣品在以后的使用中形成污斑；在非常敏感的薄膜的微量分析中，使用低能量的X光，不會形成吸收層；在高擴大率下得到更好的數據；真實的表面呈現和表面成分分析；成本低、便于操作。
另外，小型等離子清洗/刻蝕機還應用于考古學、石棉分析、醫學研究、微生物工程等領域。
等離子表面處理設備工作原理分析：
電漿與材料表面可產生的反應主要有兩種，一種是靠自由基來做化學反應，另一種則是靠等離子作物理反應，以下將作更詳細的說明。
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（1）化學反應（Chemical reaction） 在化學反應里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4）等，這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基，其方程式為： 這些自由基會進一步與材料表面作反應。
其反應機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學反應，在壓力較高時，對自由基的產生較有利，所以若要以化學反應為主時，就必須控制較高的壓力來近進行反應。
（2）物理反應（Physical reaction）
主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉，由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長，有得能量的累積，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越是有的作撞擊，所以若要以物理反應為主時，就必須控制較的壓力下來進行反應，這樣清洗效果較好，為了進一步說明各種設備清洗的效果。
等離子體清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。
等離子體清洗技術的特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。
