等離子表面處理設(shè)備整體解決方案提供商等離子體沉積薄膜

用等離子體聚合介質(zhì)膜可保護電子元件，用等離子體沉積導電膜可保護電子電路及設(shè)備免遭靜電荷

積累而引起損壞，用等離子體沉積薄膜還可以制造電容器元件。在電子工業(yè)、化學工業(yè)、光學等方

面有許多應(yīng)用。①等離子體沉積硅化合物。用SiH4+N2O〔或Si(OC2H4)+O2〕,制成SiOxHy。氣壓1~5

托(1托≈133帕)，電源13.5兆赫。氮化硅沉積用SiH4+SiH3+N2。溫度300℃，沉積率約180埃/分。

非晶碳化硅膜由硅烷加含碳的共反應(yīng)劑得SixC1+x:H，x是Si/Si+C比例。硬度大于2500千克/毫米2

。在多孔基片上,用等離子體沉積一層薄聚合膜，制成選擇性的滲透膜及反滲透膜，可用于分離混

合氣中的氣體，分離離子與水。也可以組合超薄膜層，以適應(yīng)不同的選擇性，如分子大小，可溶性

，離子親合性，擴散性等。在碳酸鹽-硅共聚物基片上,用一般方法沉積0.5毫米薄膜,氫/甲烷的滲

透性比為0.85，甲烷的滲透性比氫的高。若用等離子體在基片上沉積苯甲氰單體,這一比值增為33,

分離作用大為提高。反滲透膜可用于海水脫鹽。在水流量低于一定閾值時，排鹽效果才好。烯烴族

、雜芳香族及芳香胺等的聚合膜具有滿意的反滲透性。②等離子體沉積膜可用于光學元件，如消反

射膜，抗潮、抗磨損等薄膜。在集成光學中，用等離子體可以按照所需的折射率沉積上穩(wěn)定的膜，

用于聯(lián)接光路中各元件。這種膜的光損失為0.04分貝/厘米。

等離子表面處理設(shè)備整體解決方案提供商用于材料表面改性

主要有以下幾個方面:①改變潤濕性(又稱浸潤性)。一些有機化合物表面的潤濕性對顏料、墨、粘

結(jié)劑等的粘結(jié)性，對于材料表面的閃絡(luò)電壓及表面漏泄電流等電性能，都有很大的影響。衡量潤濕

性的量稱為接觸角。表1中列出一些材料的不同處理對接觸角的影響。②增強粘附性。用等離子體

活化氣體處理一些聚合物及金屬之后，可使材料與粘附劑的結(jié)合強度得到加強。原因可以是聚合物

表面的交聯(lián)加強了邊界層的粘附力;或是等離子體處理過程中引入了偶極子而提高了聚合物表面粘

附強度;也可能是等離子體處理消除了聚合物表面的污層，改善了粘附條件。電暈處理也有同樣效

果。表2列出一些聚合物與金屬粘附的結(jié)果，等離子體處理的效果明顯。③強化聚合物與聚合物的

粘附。例如玻璃絲加強的環(huán)氧樹脂用氦等離子體處理后，與硫化橡膠的粘附增強233%。聚酯輪胎線

經(jīng)過等離子體處理(如NH3)后，與橡膠的粘附強度提高8.4倍。