布魯克斯氣體質量流量控制器和流量計廣泛應用于:真空鍍膜設備、光電產業到工業工具的表面鍍膜、SPUTTER磁控濺射臺、PVD、CVD、MOCVD、氧化、等離子刻蝕、離子注入,直拉式晶爐,精密半導體、燃料電池、氣調儲存保鮮相關設備、生物反應器、生物過程控制器、大學實驗室、研究所、食品及制藥產業、醫療設備、氣相色譜儀等相關行業。?數模橡膠密封;流量范圍:0.003-30 slpm;耐壓:100 Bar精度:±1.0% of rate(20%-**** FS);±0.2% FS(below 20% FS);±1.0% of FS(1100-2500 slpm)
- DeviceNet™、RS-485 L-協議和模擬接口
- 按照半導體行業標準對高性能組件進行七次連續測試以確保其可靠性
- 表面積和未吹掃體積更小的全金屬耐腐蝕流路可確保流路在吹掃步驟更快干燥
- MultiFlo™ 技術可在 60 秒內完成新過程氣體和/或量程的設定操作 – 不再需要拆除并校準 MFC
- *零點穩定性,每年變動小于滿量程的 ± 0.5%
- 穩定時間:500 ms - <1 秒
- 滿量程流速高達 300 slpm
- 全金屬密封流路: Ra 表面處理的流路
- 耐腐蝕 Hastelloy® T-Rise 傳感器可提升高溫下測量結果的可重現性
- MultiFlo™ 氣體和量程設定功能 — 一臺設備即可滿足數千種氣體類型和各種量程組合的需求,無需從氣路上拆除 MFC 并且不影響精度
- 本地顯示屏
- 可選 SDS 氣體輸送
- DeviceNet™、RS-485 L-協議和模擬接口
- 半導體蝕刻工具
- 薄膜化學氣相沉積系統(CVD、MOCVD、PECVD、ALD)
- 物理氣相沉積 (PVD) 系統
- 外延工藝系統