概述
新的光學(xué)系統(tǒng)令 ECLIPSE煥發(fā)新風(fēng)采
ECLIPSE 顯微鏡機(jī)身采用模塊化制造，可滿足多領(lǐng)域的工業(yè)應(yīng)用，其中包括半導(dǎo)體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列經(jīng)過不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學(xué)系統(tǒng)和功能，可根據(jù)觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明模式和反射／透射組合照明模式以滿足任何應(yīng)用需求。
產(chǎn)品特點
改進(jìn)的光學(xué)性能
以*的高數(shù)值孔徑和長工作距離設(shè)計理念而著稱的尼康CFI60光學(xué)系統(tǒng)，經(jīng)過進(jìn)一步改進(jìn)，長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。
輕松的操作
與數(shù)碼相機(jī)集成，現(xiàn)可使用數(shù)碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內(nèi)的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進(jìn)行電動操作，以更高效地進(jìn)行觀察和圖像拍攝。
多種觀察方式
可支持多種觀察方法：明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量觀察功能。此外，LV100DA和LV100DA-U還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。
