納米金剛石拋光液研磨分散機，納米金剛石研磨分散機，進口納米研磨分散機，德國研磨分散機，IKN研磨分散機，立式研磨分散機，管線式研磨分散機

IKN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。

IKN研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過研磨分散機定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及分散的效果。

由于納米材料具有顆粒尺寸小、比表面積大、表面能高、表面原子所占比例大等特點，以及其*的四大效應：小尺寸效應、量子尺寸效應、量子隧道效應和表面效應，從而具有傳統材料所不具備的奇異或反常的物理、化學特性。
 

常規的拋光液是將不同粒徑的顆粒放入基液制成拋光劑，廣泛用于金相拋光、高級照像鏡頭拋光、高級晶體拋光以及巖石拋光等。***細的顆粒尺寸一般在微米到亞微米級。隨著高技術的飛快發展，要求晶體的表面有更高的光潔度。這就要求拋光劑中的顆粒越來越細，分布越來越窄，納米微粒為實現這個目標提供了基礎。目前已制成的用納米金剛石配置的超精拋光液、拋光膏，可用于紅、藍寶石、首飾、高級光學鏡頭和激光鏡頭的精拋光，表面粗糙度可達Rmax<<1nm 
 

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CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
 

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

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