工業(yè)化碳納米管導(dǎo)電膠分散機(jī)，碳納米管導(dǎo)電膠高剪切研磨機(jī)，碳納米管高剪切研磨分散機(jī)，碳納米管導(dǎo)電膠漿料設(shè)備，碳納米管導(dǎo)電膠研磨機(jī)，導(dǎo)電膠漿料分散機(jī)
導(dǎo)電膠性能優(yōu)異。適用于LED、大功率LED、LED數(shù)碼管、LCD、TR、IC、COB、PCBA、FPC、FC、LCD、EL冷光片、顯示屏、壓電晶體、晶振、諧振器、太陽(yáng)能電池、光伏電池、蜂鳴器、半導(dǎo)體分立器件等各種電子元件和組件的封裝以及粘結(jié)等。應(yīng)用范圍涉及電子元器件、電子組件、電路板組裝、顯示及照明工業(yè)、通訊、汽車(chē)電子、智能卡、射頻識(shí)別、電子標(biāo)簽等領(lǐng)域。
目前的導(dǎo)電膠大多是銀粉膠或者銅粉膠，銀粉膠導(dǎo)電性能穩(wěn)定，但是成本高；銅粉膠則成本較低，但電性能不穩(wěn)定。進(jìn)來(lái)，碳納米管因具有突出的機(jī)械、電、熱性能而引起人們的關(guān)注。尤其是它的熱導(dǎo)率遠(yuǎn)大于銀、銅，用它可以制備高導(dǎo)熱膠。金屬碳納米管復(fù)合材料則結(jié)合了金屬*的導(dǎo)電性能和碳納米管*的掉熱性能與一體，從而制作優(yōu)良的導(dǎo)電膠
國(guó)內(nèi)目前采用化學(xué)鍍法在碳納米管表面包覆金屬銀,獲得了導(dǎo)電性*的納米銀-碳復(fù)合管,并以該復(fù)合管為導(dǎo)電功能體制備導(dǎo)電膠.研究結(jié)果表明,所得的納米導(dǎo)電膠導(dǎo)電性和理化性能均較好,且比傳統(tǒng)的銀粉導(dǎo)電膠節(jié)省銀30﹪~55﹪.
碳納米管分散到導(dǎo)電膠中，研磨分散的越好，導(dǎo)電膠的導(dǎo)電性能才會(huì)越高。在選擇合適的潤(rùn)濕劑和分散劑的同時(shí)，分散設(shè)備的選擇也至關(guān)重要。好的分散設(shè)備會(huì)更好、更快的將碳納米管分散到導(dǎo)電膠中，更加均勻、穩(wěn)定。上海IKN專業(yè)于碳納米管、石墨烯、富勒烯分散設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn)，并且在深圳、成都、常州、寧波等多家企業(yè)有著成功的案例。如：碳納米管分散到涂料中，碳納米管分散到水中，碳納米管分散到NMP中，在碳納米管導(dǎo)電膠和其它碳納米管材料中都有著巨大的優(yōu)勢(shì)。
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)*的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高
轉(zhuǎn)速***高可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的碳納米管導(dǎo)電膠。
工業(yè)化碳納米管導(dǎo)電膠分散機(jī)，碳納米管導(dǎo)電膠高剪切研磨機(jī)，碳納米管高剪切研磨分散機(jī)，碳納米管導(dǎo)電膠漿料設(shè)備，碳納米管導(dǎo)電膠研磨機(jī)，導(dǎo)電膠漿料分散機(jī)
IKN碳納米管導(dǎo)電涂料研磨分散設(shè)備有很高的線速度，以及特殊上深下淺的三級(jí)磨頭結(jié)構(gòu)，一次處理即可滿足細(xì)化要求。*級(jí)刀頭形狀，可以把相對(duì)大塊的物料進(jìn)行初步粉碎，以便能順利通過(guò)更細(xì)的兩級(jí)進(jìn)行細(xì)微化研磨。磨頭齒列深度為從開(kāi)始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)，相較溝槽是直線，同級(jí)的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級(jí)磨齒，但他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。并且第二級(jí)為分散工作頭，可以進(jìn)行更充分的分散。先研磨后分散效果更佳，效率也更高。
CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到***低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
，碳納米管導(dǎo)電膠高剪切研磨機(jī)，碳納米管高剪切研磨分散機(jī)，碳納米管導(dǎo)電膠漿料設(shè)備，碳納米管導(dǎo)電膠研磨機(jī)，導(dǎo)電膠漿料分散機(jī)
